魏晓莉, 何瑞芳, 高凯雄, 王新生, 叶国永, 庄新记
表面技术. 2026, 55(7): 133-142.
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2026.07.011
目的 本研究旨在探究氮气流量对TiSiN薄膜微观结构及力学性能的影响,通过优化制备参数,提升薄膜的综合性能,为其在耐磨涂层等工业领域的应用提供理论依据。方法 采用中频磁控溅射技术在Si(100)基底上制备TiSiN薄膜,通过调节氮气流量(4~14 mL/min)调控薄膜结构。利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(Raman)等技术分析薄膜的晶相组成、化学键状态及表面形貌,并通过纳米压痕仪测试其硬度、弹性模量,采用划痕仪测试其结合力。结果 当氮气流量为10 mL/min时,薄膜表现出最优性能,硬度(16.2 GPa)和弹性模量(149.3 GPa)达到峰值,抗塑性变形能力(H3/E2=0.19 GPa)和结合力(临界载荷8.67 N)最佳。XRD与TEM显示薄膜为TiN纳米晶镶嵌于非晶Si3N4基体的复合结构,氮气流量增加促进TiN形核,但过量氮气(>10 mL/min)导致Si3N4抑制效应减弱,晶粒粗化,硬度下降。XPS证实N元素以Ti—N键为主,N—Si键含量先增后减,与硬度变化趋势一致。结论 氮气流量通过调控TiN形核和Si3N4非晶相抑制效应,显著影响TiSiN薄膜的纳米复合结构与力学性能。10 mL/min为最佳氮气流量,此时薄膜兼具高硬度、强韧性和优异结合力,为工业应用提供了优化方向。