万俊麟, 鄢容, 穆磊, 江泽桐, 王晨雪, 王兆辉, 李曾杰, 温煜娴
目的 研究自偏压对射频等离子体恢复单晶第一镜反射率的影响,为未来聚变堆诊断第一镜反射率原位恢复提供重要参考和依据。方法 在实验室条件下,采用射频氩等离子体,在工作气压为1 Pa,自偏压分别为-100、-200和-300 V条件下,开展单晶钼第一镜表面Al2O3清洗实验,并通过扫描电子显微镜、紫外可见分光光度计和非接触式三维表面轮廓仪等手段对第一镜表面和光学特性进行表征。结果 当自偏压为-300 V时,射频氩等离子体清洗23 h后,第一镜表面Al2O3杂质被完全去除,镜表面平整,第一镜全反射率有效恢复,且漫反射率变化小(<1%);当自偏压为-200 V时,射频氩等离子体清洗33 h后,第一镜表面的Al2O3杂质被完全去除,全反射率恢复到清洗前的水平;当自偏压为-100 V时,射频氩等离子体清洗354 h后,第一镜表面仍存在Al2O3杂质残留,全反射率仅恢复到清洗前的70%。结论 单晶钼材料具有良好的抗溅射能力,射频等离子体清洗对第一镜表面损伤小,清洗后第一镜漫反射率较低。且采用绝对值较高的自偏压(-300 V),溅射第一镜杂质粒子能量高和沉积杂质溅射率高,第一镜反射率恢复效率更快;低自偏压绝对值(-100 V)条件下的溅射再沉积和低通量溅射粒子无法完全去除第一镜表面的杂质沉积。因此,单晶第一镜清洗可适当提高自偏压绝对值以提升清洗效率。