贾丛丛, 王恩青, 葛芳芳, 黄峰, 李朋, 鲁晓刚
表面技术. 2016, 45(1): 62-68,105.
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.01.010
目的 在室温条件下,采用物理气相沉积(PVD)磁控溅射沉积方法,通过控制 Si 靶功率制备具有不同 Si 含量的 CrSiN 涂层,以探究 Si 元素对涂层结构和性能的影响。 方法 通过 X 射线衍射、能谱仪测试、纳米压痕测试、维氏硬度压痕测试和摩擦磨损实验,分别评价 CrSiN 涂层的结构、硬度、韧性和耐磨性能,并通过扫描电子显微镜对压痕形貌进行分析。 结果 所有 CrSiN 涂层均呈(111),(200) 取向的NaCl 结构。 随着 Si 含量增加,XRD 峰呈宽化趋势,晶粒细化效果明显。 随 Si 元素的加入,CrSiN 涂层硬度、模量和韧性均呈先增加后降低的趋势。 相比 CrN 涂层,Si 的原子数分数为 3. 2% 时,CrSiN 涂层的硬度由 21. 4 GPa 增至 35. 7 GPa,模量由 337. 7 GPa 增至 383. 9 GPa,塑性指数由 0. 5 增至 0. 55,实现了强韧一体化。 加入 Si 元素,CrSiN 涂层的耐磨损性能得到改善,且 Si 的原子数分数为 3. 2% ,磨损率最低,为1. 0×10-17 m3 / (N·m),提高了约一个数量级。 结论 Si 元素的加入可以有效改善 CrSiN 涂层的结构,提高 CrSiN 涂层的硬度、韧性和磨损性能,但需加入适量的 Si,才可实现性能最优化。