吴博, 黄静梦, 谭桂珍, 郝志峰, 胡光辉, 崔子雅, 罗继业, 谭柏照, 杨应喜, 李小兵, 黎小芳, 刘彬云
表面技术. 2021, 50(6): 148-160.
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2021.06.015
金在电子产品和装饰性产品中的应用十分广泛,其稳定的化学性质不仅能够对基底起到良好的保护作用,金黄的色泽还具有装饰效果。虽然电镀金和置换镀金均能够沉积金层,但是金层的质量还存在不可控的难题,诸如基底形状会影响镀层的均匀性、“黑盘”现象的产生以及镀层厚度有限等。近年来,随着电子产品的快速发展,许多行业对电路板的整体质量提出了越来越高的要求,金层对保证电子器件的可靠性起着非常重要的作用。还原镀金是克服上述缺陷的一个重要研究领域,特别是环境友好的无氰镀金技术已成为研究热点。对氰化物体系和无氰体系镀金液常用还原剂(包括亚硫酸盐、二甲基胺硼烷、次磷酸盐、联氨、抗坏血酸、硼氢化钠、硫脲和其他还原剂)及促进剂的研究和作用基本原理进行了总结,重点阐述了镍和金对这些还原剂的催化活性。大部分还原剂仅受镍和金其中一种金属的催化,在沉积初始阶段和后期阶段,两种或多种还原剂的复配是实现反应速率保持较高的一种可行方案。沉积厚金依赖于可被金催化氧化的还原剂。最后展望了无氰还原镀金的发展方向。