廉兵杰, 石泽民, 徐慧, 赵起锋, 王木立, 姜云瑛, 胡松青
表面技术. 2015, 44(12): 19-26.
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.12.004
目的 对比三氮唑(TA)和苯并三氮唑(BTA)两种缓蚀剂的缓蚀性能,明确两种缓蚀剂在铜表面的吸附类型,并从实验和分子模拟角度解释其吸附机理。 方法 采用动电位极化曲线法测试两种缓蚀剂的缓蚀效率,采用吸附等温拟合方法确定两种缓蚀剂的吸附类型,采用分子模拟中的量子化学计算方法计算两种缓蚀剂在铜表面的吸附能、形变电荷密度和分波态密度等参数,深入揭示其吸附机理。 结果在不同浓度下,BTA 的缓蚀效率均大于 TA。 两种缓蚀剂浓度与覆盖度的关系符合 Langmuir 吸附模型,其吸附自由能介于-35 ~ -37 kJ/ mol 之间。 BTA 在铜表面的吸附能绝对值(顶位为 4. 41 eV,桥位为 4. 36eV)要大于 TA 的吸附能绝对值(3. 28 eV),吸附过程发生了明显的电荷转移,电子云处于两个成键原子之间,且 N 原子 s,p 轨道与 Cu 原子 d 轨道发生重叠。 中性和质子化形式的两种缓蚀剂分子均可在铜表面发生平行吸附。 结论 由于 BTA 在铜表面的吸附能力强于 TA,因此 BTA 的缓蚀性能优于 TA。 两种缓蚀剂在铜表面既能发生化学吸附,又能发生物理吸附。 化学吸附是由于 N 原子的 s,p 轨道与 Cu 原子d 轨道相互作用所致,物理吸附是由于中性分子的范德华相互作用和质子化分子的静电相互作用所致。