电沉积 CuS 镀液的电化学性能及镀膜相组成

石璐丹, 张力, 刘科高, 高稳成

Electrochemical Performance of CuS Plating Solution and Phases of Its Thin Film

SHI Lu-dan, ZHANG Li, LIU Ke-gao, GAO Wen-cheng

表面技术 . 2014, (4): 92 -96 .