化学机械抛光垫的研究进展

化学机械抛光垫的研究进展

曹威, 邓朝晖, 李重阳, 葛吉民

Polishing Pad in Chemical Mechanical Polishing

CAO Wei, DENG Zhao-hui, LI Zhong-yang, GE Ji-min

表面技术 . 2022, (7): 27 -41 . DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2022.07.003