×
模态框(Modal)标题
在这里添加一些文本
关闭
关闭
提交更改
取消
确定并提交
×
模态框(Modal)标题
×
中国科技期刊卓越行动计划二期中文领军期刊
El Compendex
Scopus
CSCD(核心库)
中文核心期刊要目总览
中国科技核心期刊
Toggle navigation
首页
期刊简介
编委会
过刊浏览
作者指南
投稿须知
出版伦理
开放获取
联系我们
English
沉积压力对磁控溅射WS2薄膜摩擦学性能的影响
贺江涛, 蔡海潮, 薛玉君
Effect of Deposition Pressure on Tribological Properties of WS2 Films by Magnetron Sputtering
HE Jiang-tao, CAI Hai-chao, XUE Yu-jun
表面技术 . 2020, (
4
): 180 -187 . DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.04.020