硅/铝氧化物的原子层刻蚀工艺研究

硅/铝氧化物的原子层刻蚀工艺研究

孙博文, 冯玉群, 杨帆, 曹坤, 陈蓉

Plasma Atomic Layer Etching Process of Silicon/Aluminum Oxide

SUN Bowen, FENG Yuqun, YANG Fan, CAO Kun, CHEN Rong

表面技术 . 2025, (23): 68 -77 . DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2025.23.004