高功率脉冲磁控溅射等离子体放电特性研究现状

艾猛, 李刘合, 韩明月, 苗虎

Discharge Characteristics of Plasma Made by High Power Pulse Magnetron Sputtering

AI Meng, LI Liu-he, HAN Ming-yue, MIAO Hu

表面技术 . 2018, (9): 176 -186 . DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.09.023