刘恒,熊玉卿,王济洲.采用原子层沉积技术在管道内壁镀铝膜的分析研究[J].表面技术,2012,(3):47-50.
LIU Heng,XIONG Yu-qing,WANG Ji-zhou.Analysis of Aluminum Deposition on Inner Wall of Pipes with Atomic Layer Deposition[J].Surface Technology,2012,(3):47-50
采用原子层沉积技术在管道内壁镀铝膜的分析研究
Analysis of Aluminum Deposition on Inner Wall of Pipes with Atomic Layer Deposition
投稿时间:2012-01-09  修订日期:2012-06-20
DOI:
中文关键词:  原子层沉积  管道内壁  波导  
英文关键词:atomic layer deposition  inner wall  waveguide  aluminum
基金项目:中国空间技术研究院青年创新基金(GY0303)
作者单位
刘恒 兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室,兰州730000 
熊玉卿 兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室,兰州730000 
王济洲 兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室,兰州730000 
AuthorInstitution
LIU Heng Science and Technology on Surface Engineering Laboratory, Lanzhou Institute of Physics, Lanzhou 730000, China 
XIONG Yu-qing Science and Technology on Surface Engineering Laboratory, Lanzhou Institute of Physics, Lanzhou 730000, China 
WANG Ji-zhou Science and Technology on Surface Engineering Laboratory, Lanzhou Institute of Physics, Lanzhou 730000, China 
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中文摘要:
      研究分析了采用原子层沉积技术在大长径比管道内壁镀制铝膜的可行性。首先,建立了管道内壁气体吸附动力学方程,通过分离变量法解吸附动力学方程,计算出反应前驱体在管道内壁达到饱和化学吸附的时间;其次,根据铝晶胞的面心立方结构,计算出每层原子层沉积周期所镀制的铝膜厚度;最后,理论计算能实现正常波导的管道内壁所需要的铝膜最小厚度,得出原子层沉积所要循环的周期数。
英文摘要:
      The feasibility of aluminum deposition on inner wall of waveguide by atomic layer deposition was studied. First, by solving adsorption kinetics equation based on gas on the pipe inner wall, the time for the reactant to reach saturated adsorption on the basis was calculated. Then, according to the aluminum crystal structure, the thickness of each deposition cycle was obtained. Finally, the minimum aluminum thickness and number of atomic layer deposition cycles that can meet electromagnetic requirement of wave guide was calculated.
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