王颖男,杭凌侠,胡敏达.等离子体加工光学元件工艺研究[J].表面技术,2008,37(1):51-53.
WANG Ying-nan,HANG Ling-xia,HU Min-da.Super Smooth Surface Fabrication Processes-plasma Etching[J].Surface Technology,2008,37(1):51-53 |
| 等离子体加工光学元件工艺研究 |
| Super Smooth Surface Fabrication Processes-plasma Etching |
| 投稿时间：2007-10-23 修订日期：2008-02-10 |
| DOI： |
| 中文关键词: 超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率 |
| 英文关键词:Super smooth surface Plasma polishing Capacitivcly-coupled discharge Roughness of surface Remove rate |
| 基金项目: |
| 作者 | 单位 |
| 王颖男 | 西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室，陕西西安710032 |
| 杭凌侠 | 西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室，陕西西安710032 |
| 胡敏达 | 西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室，陕西西安710032 |
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| Author | Institution |
| WANG Ying-nan | Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xian Technological University, Xian 710032, China |
| HANG Ling-xia | Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xian Technological University, Xian 710032, China |
| HU Min-da | Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xian Technological University, Xian 710032, China |
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| 中文摘要: |
| 为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件，引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理，在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验，对影响去除效果的参数进行了实验研究，最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。 |
| 英文摘要: |
| A novel super smooth surface fabrication technology of plasma polishing was introduced. Progress and the mechanism of etching in the development of plasma etching processes were reviewed. Plasma polishing on designed plasma technology stage,the parameters that affect the etching results were studied by experiment, the optimal technological parameters were obtained. |
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