祝慧鑫,黄智勇,金国锋,刘德俊,赵建铄.铝合金电偶腐蚀研究方法综述[J].表面技术,2023,52(2):135-147, 195.
ZHU Hui-xin,HUANG Zhi-yong,JIN Guo-feng,LIU De-jun,ZHAO Jian-shuo.Review of Research Methods on Galvanic Corrosion of Aluminum Alloy[J].Surface Technology,2023,52(2):135-147, 195
铝合金电偶腐蚀研究方法综述
Review of Research Methods on Galvanic Corrosion of Aluminum Alloy
  
DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2023.02.012
中文关键词:  铝合金  电偶腐蚀  微区电化学  数字模拟仿真
英文关键词:aluminum alloy  galvanic corrosion  microelectrochemical measurement  digital simulation
基金项目:陕西省自然科学基金(2022JM-243)
作者单位
祝慧鑫 火箭军工程大学,西安 710000 
黄智勇 火箭军工程大学,西安 710000 
金国锋 火箭军工程大学,西安 710000 
刘德俊 火箭军工程大学,西安 710000 
赵建铄 火箭军工程大学,西安 710000 
AuthorInstitution
ZHU Hui-xin Rocket Force University of Engineering, Xi'an 710000, China 
HUANG Zhi-yong Rocket Force University of Engineering, Xi'an 710000, China 
JIN Guo-feng Rocket Force University of Engineering, Xi'an 710000, China 
LIU De-jun Rocket Force University of Engineering, Xi'an 710000, China 
ZHAO Jian-shuo Rocket Force University of Engineering, Xi'an 710000, China 
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中文摘要:
      概述了铝合金电偶腐蚀的常用研究方法,包括表面形貌观测法、质量损失法、腐蚀产物分析法、传统电化学测量等,说明了其在观测腐蚀总体形貌、表征整体腐蚀参数等方面的应用。由于常用研究方法对于深层腐蚀信息的挖掘和腐蚀机理的探究存在一定的局限性,因此重点综述了以微区电化学测量和数字模拟仿真为代表的新型研究技术。其中,微区电化学测量主要包括SKPFM技术、WBE技术、SIET、SVET、LEIS技术等,可以对微观组织的形貌细节、离子活性、电化学参数等进行精确测量,在观测尺度、检测项目上具有显著优势。数字模拟仿真则主要涉及以第一性原理为主的原子分子模拟(包括DFT和MD等)和基于FEM和XFEM的计算模型,这两者交叉了多门学科,对铝合金腐蚀机理的推理、腐蚀进程的构建、腐蚀毁伤的预测提供了良好的模拟途径。简要概述了铝合金电偶腐蚀的衍生领域研究情况,论述了缓蚀领域和三金属耦合领域不同于双金属的研究方法。最后展望了铝合金电偶腐蚀研究方法进一步发展的特点。
英文摘要:
      Aluminum alloy has been widely used in various fields in recent decades because of its high strength, low density and excellent machining performance. Due to the low corrosion potential and the lapping phenomenon with dissimilar metals, aluminum alloy is tended to be used as anode, thus accelerating the corrosion. This galvanic corrosion problem is universal and needs to be solved in depth. The common methods used to study the galvanic corrosion of aluminum alloy in China and internationally were introduced, and the new research techniques represented by microelectrochemical measurement and digital simulation were discussed.
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